"""OBDUCAT-Vortrag am 28.11.2006 zum Thema EBR
Kombination der Elektronenstrahl-Recorder für das Erarbeiten mit NanoImprint Lithographie für HVM-Produktion von Patterned Magnetträgern und folgendes Erzeugung von optischen Mitteln. Treber-Kessel, Torgny Moller, Nicklas Nilsson, Roland Palme, Erik Theander, Anette Lofstrand und Babak Heidari; Obducat AB, Malmö, Schweden. Erhöhte Auflösung auf HDTV Anzeigen erfordert mehr Speichervolumen auf optischen Scheiben und Festplatten. Neue optische Scheibe Formate wie HD-DVD und Blau-Strahl (BD) f imsind Begrif, auf dem Absatzmarkt für Konsumgüter eingeführt zu werden; Zukünftige Formate wie A.M.W. (vorgerückte optische Scheibe) sind unter Entwicklung. Während das HD-DVD mit Laser Systemen noch erarbeitet werden kann, ist das Erarbeiten Blau-Strahl-ROM schwierig. BD-ROM und A.M.W. erfordern den Gebrauch von Elichtstrahl Systeme erarbeitend. Minimale Strukturgröße des BD ist ungefähr 150 Nanometer. Für folgende Erzeugungen der mit hoher Dichte optischen Scheiben wird dieser Wert viel kleiner. Tests erarbeitend, werden mit den Strukturen geleitet, die Nanometer so klein sind wie 30. Folgendes Erzeugung magnetische Festplattenlaufwerke verwenden patterned Mittel für bewegliche Vorrichtungen wie bewegliche Telefone, digitale Kameras und Spieler MP3. Die Datendichte von magnetischem hart-fährt hat geverdoppelt jedes Jahr, aber der Schritt, an dem die Speicherdichte sich erhöht, hat die letzten Jahre wegen der Beschränkungen verlangsamt, die auf paramagnetischem Superentspannung bezogen werden. Eine Weise, dieses zu verhindern ist, patterned Mittel zu verwenden, in denen getrennte Schiene Aufnahme (DTR) und Spitze-patterned Mittel (BPM) die vielversprechendsten Technologien sind. Patterning Magnetträger sollten Datendichten bis zu 20 Tb/in2 gewähren. Herstellung solcher Scheiben kann mit einem Elektronenstrahlrecorder für Produktion einer Vorlagenscheibe und nanoimprint Lithographie für Reproduktion auf den Glas- oder Aluminiumscheiben verwirklicht werden. Wir zeigen Resultate für Anwendungen der optischen und Magnetträger. Die Herstellung Annäherung benutzt zwei einzigartige Lithographiesysteme. Zuerst benutzen wir einen Elektronenstrahl-Recorder, um das Muster auf einer Vorlagenscheibe zu definieren. Zweitens wird dieser Meister wie ein Stempel in einem nanoimprint Lithographiesystem für Abdruck auf dem abschließenden Mittelscheibe Substrat benutzt. Die einzige Weise, die erforderliche Spirale oder konzentrische das nano Muster ohne nähende Störungen zu produzieren ist auf einem drehenden Substrat. Wir entwickelten ein neues Elektronenstrahl-Lithographiesystem mit einer drehenden Spindel auf einem linearen Schweber, der das Substrat in der Radialrichtung verschiebt. Software und Kodierer lassen Datenumsetzung durchgeführtes Schnell sein, während das Muster geschrieben wird, dadurch siebeseitigen siebeseitigen Umwandlung Zeitverluste und die Gedächtnisprobleme, die vom herkömmlichen Vektor bekannt sind, lichten Elichtstrahl Systeme ab. Der Prozeß, der für Reproduktion der Scheiben der optischen und Magnetträger über das Nanoimprinting verwendet wird, basiert auf einem zweistufigen Abdruckprozeß, der das Erzeugung von einem Zwischenpolymer-plastik Stempel (IPSTM) enthalten und einem simultanen thermischen und UVabdruckprozeß (STUTM). sind Abdruckwerkzeug und -prozeß für Herstellung des hohen Volumens fähig und die Kombination des EBR-Erarbeitens mit NULL ermöglicht Herstellung des hohen Volumens mit 600 Substraten/Stunde. Unsere weiche-pressTM Technologie garantiert Restschichten unter 20 Nanometer über dem gesamten Substrat, das für folgende Musterübertragung wichtig ist. Bereits heute können wir die optischen und Magnetträger mit einem Linewidth unten bis 30 Nanometer erarbeiten und die Originalstrukturen mit unserem eigenen IPS-STUTM Prozeß auf unterschiedlichen Substratmaterialien reproduzieren. MA"""
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